半导体废气处理技术实践 1 半导体废气处理技术应用 依据这些废气的

半导体废气处理技术实践

1 半导体废气处理技术应用

依据这些废气的特性 ，在处理上采用水洗 、氧化／燃烧、吸附、解离、冷凝等方法。在半导体制造厂 ，依照系统废气排放可分为：一般排气(GEX)、酸性排气 (SEX)、碱性排气 (AEX)和有机排气 (VEX)。针对不 同污染 物，可采取 以下综合处理方法。

1．1 一般排气系统

半导体厂一般排气 (GEX)系统在运行中也称为热排气系统 ，生产过程中一些设备局部会产生大量的热或产生会对高洁净度生产环境造成影响的含尘无害气体。为了满足半导体制程对环境温湿度((22±1)℃，(45±5)％)和洁净度的极高要求 ，可将此种废气通过风管系统进行收集，然后以风机抽取并排放。通过对部分设备热排气的洁净度抽样检测发现，虽然一 般排气用 于抽取设备的含尘排放 ，但 由于一般排气系统抽取 的气体直接来 自洁净室内，且设备含尘排放浓度很低 ，因此在总风管处检测的结果仍为洁净级别 。对设备排放点的温度测量显示 ，不同设备和排放点 热排气温度差异较大最高超过 42℃，最低至 22℃，但总排放口的温度测量却并不超过 26℃，只略高于洁净室温度，仍属于室温范 围。因此 GEX可以直接排放至大气环境 ，不需做任何处理 ，为无害排放。

1．2 酸性、碱性废气处理系统

对半导体制造中产生的酸性和碱性废气采用分别收集 、分别处理的方法 ，但处理设备和处理原理基本相同。对于含有 酸性／碱性物质的废气 ，半导体厂大都采用大型洗涤式中央废气处理系统进行处理 。由于半导体制造工作区域离中央废气处理系统距离较远 ，因此部分酸性／碱性 废气在输送至 中央废气处理系统前 ，常因气体特性导致在管路中结晶或粉尘堆积 ，造成管路堵塞后导致气体外泄 ，严重者甚至引发爆炸 ，危害现场工作人员的工作安全 。因此在工作区域需配置适合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处理 ，之后再排人 中央处理系统，而一些特殊的废气，包括剧毒、自燃、易爆等废气则需要先通过干式洗涤塔等设备通过吸附或氧化／燃烧等方法就地处理 ，之后再排人中央废气处理系统 。 中央废气处理系统的核心设备是一种采用水洗式的洗涤塔 ，它的主要功能是通过控制洗涤塔 中水的酸碱度、电导度等参数，在废气与水交叉流过时使废气在洗涤塔中与水进行充分接触，吸收其中的酸性或碱性物质_2 J。洗涤塔内安装有填料床 ，用于增大废气与水 的接触面积 ，延长接触时间。填料床下面是循环水池，通过循环水泵使液体不停的循环。还设有 加药泵、pH计用 于控制 pH值 ；液位计、电导度计用于排水和补水控制 ；压差开关、压力传感器用